辊对辊丝网印刷生产线
Automatische multifuntions - roll -to- roll - producduktionslinie für allle flexible Walzmaterialien…
Weiterlesenplug -via siebdrucker, Lötmaske plug -via siebdrucker, PCB plug -via siebdrucker
Speziell für PCB-Photoimageable-Lötmasken-Plug-via- oder Non-Plug-via-Nassfilmdruckverfahren。
倡议bidirektionaler Doppelrakeldruck + bidirektionales Abziehen + bidirektionaler Tischversatz usw。专利编号:präzise Kontrolle (nicht übersprungene druckschaltongsecke und -spalt) (bidirektionaler Druckfarbenversatz /) Genauigkeit), (automatische Reinigung von Resttinte in dem Netz), (Plug-Via ohne Explosion auffüllen) usw。完善的效果,嗯模具设计和模具生产erhöhen和PCB-Hauptströmen在列。
上一次 | AT-EW160P. |
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Substratdicke. | 0,1 bis 25 mm |
Produktivität. | 150-260 p / h |
最大Druckbereich | 600 x 1300 mm |
Tischgroße | 800x1700mm. |
马克西玛尔·拉赫门- o / D-Größe | 1000年x1900mm |
Schwenkwinkel des Druckkopfs | °±9 |
Energieverbrauch | 2、6千瓦 |
Luftabsaugung | 11、2升/分 |
Maschinengewicht | 920千克 |
Maschinenabmessung | 1900x1400x1750mm. |
AT-EW80P (maximale Druckflache
尺寸:600 x 650 mm)
AT-EW80P-S(MaximaleDruckfläche
尺寸:600 x 650 mm)
AT-EW120P (maximale Druckflache
600 x 750 mm)
AT-EW120P-S(MaximaleDruckfläche600 x 950 mm)
我们的Foto-vorstellbaren标签Lötmasken-Plug-via-非插件通过nassfilmverfahren在Leiterplatten。Anfängliche erfinderische Doppelrakel Zwei-Wege-Druck + Doppel-Abziehen + Zwei-Wege-Tischverschiebung usw。专利编号:präzise Steuerung (Schaltungsecke and Riss werden bem Drucken nicht ausgelassen) (zwei - wege - druck) Tinte separat / Präzision), (automatische Reinigung von Resttinte undem Netz), (vollständig einsteckbar and nach dem Trocknen nicht ste ßend) usw。Perfekter Dreuckeffekt,Stark Steigende Druckgeschwindigkeit und Ertragsrate,Um Den Trendzzum Hauptstrom vonzuführenpcb-verarbeitung
Spezialisiert Auf Siebdruckverfahren(Z.B.Lötmaske,插件und非插件)AUF PCB-PLATTEN。Paterierte Doppelrakel-,Doppelseiten-Abzieh-und Tischverschiebungsfunktionen,Mit Denen Hervorragurdende Ergebnisse Beim Siebdruck Auf PCB-Platten Erzielt WerdenKönnenCCBundeinmal Trocknen,UM Energie Zu Sparen und DieProduktivitätZu Steigern。Es Ist在Der Idems Technen Wie“Kein Druckfehler在Schaltungsecke und Raum”,“Zwei-Wege-Druck Zum Fehlen Oder Zielen”,“Automatische Reinigung vonRückstandspashe/ Chemikalie Unter dem Netz”unchsteckenvollständigohne blase“zu erzielen。
Speziell für den Siebdruck entwickelt。Foto-Bildwiderstands-Lötmaske Plug-via- oder Non-Plug-via-Nassfilmverarbeitung Initiative Doppelrakel bidirektionaler Druck + bidirektionales Abziehen + bidirektionaler Tischversatz usw。申请专利,präzise Kontrolle (nicht übersprungene Ecke and Lücke der Druckschaltungen), (bidirektionaler Versatz / Genauigkeit der Druckfarbe), (automatische Reinigung der Resttinte在dem Netz下),(插电式爆炸auffüllen)和如此weiter, perfekter Effekt, um den Druck zu erhöhen geschwindigit and Ertragsrate führen模pcb - hauptstromproductan
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